1Q544436 | Física, FUNRIOUma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é ✂️ a) o mecanismo simples. ✂️ b) a elevada temperatura. ✂️ c) a alta taxa de deposição. ✂️ d) ser isento de contaminação. ✂️ e) não ter vantagens. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro