O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos com diâmetros maiores que 200 mm A) é impossível ter substratos com diâmetros maiores que 200 mm. B) é o de tubo horizontal. C) é o de placas paralelas. D) é o de substrato único. E) é o de tubo vertical.

O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter...

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