1Q546633 | Física, FUNRIOAssinale uma desvantagem do processo de deposição química a partir de vapor melhorada por plasma. ✂️ a) Contaminação química e por partículas. ✂️ b) Elevada temperatura. ✂️ c) Baixa taxa de deposição. ✂️ d) Péssima cobertura de degrau. ✂️ e) Não possui desvantagem. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro