Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por ...

✂️ a) perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.

✂️ b) paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.

✂️ c) paralelas, tubo horizontal e substrato único.

✂️ d) paralelas, tubo vertical e substrato único.

✂️ e) paralelas, tubo vertical e substrato duplo.

Responda: Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas