1Q594729 | Química, FUNRIOAs coberturas antirrefletoras (ARC) em fotolitografia são utilizadas para ✂️ a) reduzir as ondas estacionárias em fotorresistes. ✂️ b) reduzir a dose do UV nos fotorresistes. ✂️ c) diminuir a espessura dos fotorresistes. ✂️ d) reduzir a sensibilidade dos fotorresistes. ✂️ e) atuar como filtros de UV em fotorresistes. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro