1Q784324 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOQuais os principais dopantes usados para a obtenção de regiões dos tipos p e n em substratos de Si? ✂️ a) Do tipo p, boro, e do tipo n, arsênio e fósforo. ✂️ b) Do tipo p, gálio, e do tipo n, antimônio e índio. ✂️ c) Do tipo p, gálio e índio, e do tipo n, antimônio. ✂️ d) Do tipo p, fósforo, e do tipo n, boro e arsênio. ✂️ e) Do tipo p, arsênio e fósforo, e do tipo n, boro. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro