1Q784987 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOA principal técnica utilizada na deposição de polissilício é ✂️ a) spin-on. ✂️ b) deposição física a partir de vapor por Sputtering. ✂️ c) deposição química a partir de vapor melhorada por plasma. ✂️ d) deposição química a partir de vapor em baixa pressão. ✂️ e) deposição química a partir de vapor à pressão atmosférica. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro