1Q785502 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOAssinale a alternativa que contém somente processos que retirem o fotorresiste. ✂️ a) Limpeza piranha (solução H2SO4/H2O2) e processo com plasma de oxigênio. ✂️ b) Limpeza RCA e corrosão com HCl. ✂️ c) Limpeza piranha (solução H2SO4/H2O2) e limpeza RCA. ✂️ d) Processo com plasma de oxigênio e limpeza RCA. ✂️ e) Limpeza piranha (solução H2SO4/H2O2) e corrosão com solução de HCl. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro