1Q785998 | Engenharia Elétrica, Dispositivos Eletrônicos, FUNRIOQuais das alternativas a seguir apresenta as etapas sequenciais do método padrão RCA para limpeza de lâminas de Si? ✂️ a) 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: HCl:H2O, enxague em H2O. ✂️ b) 1ª etapa com solução: HCl:H2O2:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: NH4OH:H2O2:H2O, enxague em H2O. ✂️ c) 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O2:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: HCl:H2O2:H2O, enxague em H2O. ✂️ d) 1ª etapa com solução: HCl:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: NH4OH:H2O, enxague em H2O. ✂️ e) 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: H2O2:H2O, enxague em H2O. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro