1Q786461 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOQue filmes são depositados por LPCVD (deposição química a partir da fase vapor executada em baixa pressão)? 1 -W e SiO2. 2 - SiO2 e Si3N4. 3 - Si3N4 e silício policristalino. 4 - Si3N4, SiO2 e silício policristalino. ✂️ a) Apenas 2 e 3. ✂️ b) Apenas 3 e 4. ✂️ c) Apenas 1, 2 e 3. ✂️ d) Apenas 2, 3 e 4. ✂️ e) 1, 2, 3, e 4. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 📑 Conteúdos 🏳️ Reportar erro