1Q787055 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOA remoção de fotorresiste por plasma (Ashing) é realizada utilizando descarga em quais gases? ✂️ a) Cl2 ✂️ b) SF6 ✂️ c) CF4 ✂️ d) O2 ✂️ e) N2 Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro