1Q787862 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOSobre os resistores em silício policristalino, fabricados nos processos CMOS (Metal-Óxido-Semicondutor Complementar), é correto afirmar que: ✂️ a) São fabricados a partir do ajuste da largura e do comprimento das regiões de difusão “n+” depositadas entre o substrato “p” e a camada espessa de óxido, e a variação dos valores de resistência obtidos está entre cerca de 20% a cerca de 50%. ✂️ b) São fabricados aproveitando a cavidade “n” como resistor e possuem casamento de valores de cerca de 5%. ✂️ c) São fisicamente separados do substrato e possuem capacitâncias parasitárias reduzidas. ✂️ d) São auto-isolados pelas junções “pn” reversamente polarizadas e possuem capacitâncias parasitárias elevadas. ✂️ e) São fabricados a partir do ajuste da largura e do comprimento das regiões de difusão “p+” depositadas entre a cavidade “n” e a camada espessa de óxido, e a variação dos valores de resistência obtidos está entre cerca de 20% a cerca de 50%. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro