1Q789754 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOEm três lâminas de Si iguais foram implantados os ions de 11B+, na primeira, 31P+, na segunda e 75As+, na terceira. Qual implantação de íons destruirá mais a rede cristalina em sua respectiva lâmina de Si. Nota: todas as implantações foram executadas com a mesma energia e dose, e em temperatura ambiente. ✂️ a) As três implantações destruirão por igual a rede cristalina do Si. ✂️ b) A implantação de íons de 31P+ ✂️ c) A implantação de íons de 11B+ ✂️ d) A implantação de íons de 75As+ ✂️ e) As implantações de 75As+ e 11B+ destruirão por igual a rede cristalina do Si, e a de 31P+ destruirá mais. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro