1Q789957 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOQuando se utiliza a deposição química a partir da fase vapor enriquecida por plasma (PECVD)? ✂️ a) Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas baixas, menores que 350ºC. ✂️ b) Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas altas, maiores que 900ºC. ✂️ c) Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas baixas, menores que 350ºC. ✂️ d) Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas altas, maiores que 900ºC. ✂️ e) Quando se necessita da difusão e deposição de dopantes e filmes em qualquer temperatura. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro