O processo de limpeza padrão utilizado na fabricação de Circuitos Integrados consiste em uma sequência de etapas, e tem como objetivo principal garantir uma limpeza eficaz das lâminas, com a menor quantidade possível de impurezas. Para a remoção de compostos orgânicos, há 2 (duas) observações importantes no preparo da mistura de limpeza (H2SO4/H2O2): (1) adicionar primeiro o H2O2 e (2) deixar a mistura resfriar antes de reservá-la em um recipiente. Essas observações se devem, respectivamente, A) ao processo endotérmico e à decomposição da água oxigenada. B) ao processo exotérmico e à decomposição da água oxigenada. C) à liberação rápida de calor e à condensação da água oxigenada. D) à absorção rápida de calor e à decomposição de ácido sulfúrico. E) ao processo exotérmico e à decomposição de ácido sulfúrico.

B) ao processo exotérmico e à decomposição da água oxigenada.

O processo de limpeza padrão utilizado na fabricação de Circuitos Integrados consiste e...

Responda: O processo de limpeza padrão utilizado na fabricação de Circuitos Integrados consiste em uma sequência de etapas, e tem como objetivo principal garantir uma limpeza eficaz das lâminas, com a menor ...

1Q791253 | Engenharia Química, FUNRIO

O processo de limpeza padrão utilizado na fabricação de Circuitos Integrados consiste em uma sequência de etapas, e tem como objetivo principal garantir uma limpeza eficaz das lâminas, com a menor quantidade possível de impurezas. Para a remoção de compostos orgânicos, há 2 (duas) observações importantes no preparo da mistura de limpeza (H₂SO₄/H₂O₂): (1) adicionar primeiro o H₂O₂ e (2) deixar a mistura resfriar antes de reservá-la em um recipiente. Essas observações se devem, respectivamente,

✂️ a) ao processo endotérmico e à decomposição da água oxigenada.
✂️ b) ao processo exotérmico e à decomposição da água oxigenada.
✂️ c) à liberação rápida de calor e à condensação da água oxigenada.
✂️ d) à absorção rápida de calor e à decomposição de ácido sulfúrico.
✂️ e) ao processo exotérmico e à decomposição de ácido sulfúrico.