Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxido de Si, de nitreto de Si e de silício policristalino, usados na tecnologia CMOS? A) Microscopia eletrônica de transmissão (TEM). B) Microscopia eletrônica de varredura (SEM). C) Microscopia de força atômica (AFM). D) Elipsometria. E) Perfilometria.

Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxi...

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