1Q788845 | Engenharia Elétrica, Princípios de Ciências dos Materiais, FUNRIOQual processo deve ser executado para corrigir os danos causados pela implantação de íons em lâmina de Si? ✂️ a) Oxidação térmica seca. ✂️ b) Recozimento térmico em ambiente inerte. ✂️ c) Deposição a partir da fase vapor. ✂️ d) Oxidação térmica úmida. ✂️ e) Tratamento térmico em ambiente de oxigênio. Resolver questão 🗨️ Comentários 📊 Estatísticas 📁 Salvar 🧠 Mapa Mental 🏳️ Reportar erro